2016年12月17日，选修国科大电子学院“半导体工艺与制造技术”课程的130多名研一学生在中国科学院微电子所集成电路先导工艺研发中心的工艺线完成了集成电路工艺课程实训。
中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心拥有净化面积约3000平方米的8英寸研发线。平台采用工业标配设备，实行工业化管理，可为国内外企业提供CMOS集成电路和MEMS器件产业技术的开发和小批量生产。依托这样的平台开展实训，不仅可以加深同学对课堂所授理论知识的理解，更重要的可以提供一个真实的工业环境，使学生能够实地了解工艺工程师的工作模式、氛围和意义，从而产生对这一职业的热爱。
此次课程实训分为两个环节。首先由平台一线工程师提供关于生产线工作规程、质量控制、沾污控制、安全和超净间事故应急处置措施等内容的培训，使同学们对工艺线建立初步的感性认识。然后，实训同学穿上超净服走进工艺线，实地系统地学习集成电路制造的每一个工艺模块，包括离子注入、扩散、湿法清洗、外延生长、薄膜原子层淀积（ALD）、低压化学气相淀积（LPCVD）、等离子体干法刻蚀、光刻、化学机械平坦化、溅射与电子束蒸发、等离子体化学气相淀积（PECVD）、快速热退火（RTP）、薄膜量测及电学性能测量等，使同学们将课堂知识与实际工艺联系起来，加深了对半导体工艺与制造技术课程内容的理解。
尽管已是寒冬，但参加实训的同学们充满了热情和好奇，整个实训期间始终精神饱满，认真听实训老师的讲解，踊跃提问，不但更好的提高了学生们的动手能力，更重要的是引发了同学们对课程内容的深入思考。还有同学把自己穿着超净服的照片晒到朋友圈里，跟朋友们分享自己的喜悦和自豪。在广大师生的共同努力下，本次工艺课程实训圆满结束，收到了非常好的效果。
（活动组织：国科大电子学院、微电子学院、中科院微电子所先导中心）
实训老师为同学们实地讲解工艺线
实训老师与部分参加课程实训的同学合影留念
实训师生集体大合影
